ALE#반도체#식각#Etch#Atomic#Layered#Etch1 [반도체/식각] Atomic Layered Etch(ALE) 기술에 대하여 원자층 단위 식각법, (Atomic Layer Etching, ALE) 기술은 Self-limiting 방식을 통하여 한 층씩(Layer by Layer mechanism) 식각하는 기술이다. ALE기술은 기존 Reactive Ion Etching (RIE)방식의 대안으로 엄청 오래전인 1988년에 처음 소개되었다. 컨셉자체는 엄청 예전에 소개되었지만, 식각속도(Etch Rate)이 굉장히 늦어 당시에 큰관심을 못받게 되었지만.... 식각난이도가 올라간 최근 트렌드(ex.수nm단위 식각) 에서 다시 각광받게 되는 기술중 하나이다. Atomic Layered Etch(ALE) 공정의 과정 ALE의 과정은 간략히 두 가지 과정; (1) Surface modification (reaction A) (2) Su.. 2022. 10. 24. 이전 1 다음
